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羲之，卻難量產中國曝光機精度逼近
时间: 2025-08-30 11:46:34来源：
北京 作者: 代妈机构
導致成本偏高 、中國之精最快今年第三季展開試產；如今浙江大學又帶來 EBL 新設備
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中國受美國出口管制影響
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。
China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,代妈可以拿到多少补偿 But Limited to Research Applications, Not Mass Production （首圖來源 ：中國杭州人民政府）
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浙江大學余杭量子研究院研發的 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」 ，【代妈应聘选哪家】 無法取得最先進的 EUV 機台 ，中芯國際的 5 奈米量產因此受阻 ，中國正積極尋找本土化解方 。號稱性能已能媲美國際主流設備，
